Trešdien, 2008. gada 17. decembrī plkst. 16:30, FMF 233. auditorijā Zeļļu ielā 8
runās
Dr. Linards Skuja
no LU CFI Amorfo materiālu spektroskopijas laboratorijas
par tēmu
"Point defects in amorphous silicon dioxide and their effect on optical applications"
Anotācija
Amorfais silīcija dioksīds stikla („kvarca stikla”), oksīdu kārtiņu vai nanodaļiņu formā tiek plaši lietots daudzās svarīgās tehnoloģijās, piemēram optiskajos gaismasvados, mikroelektronikā, radiācijas un lāzer-izturīgā optikā u.c.Seminārā tiks dots īss ieskats sekojošos jautājumos:
SiO2 īpašības un struktūra
Galvenie pielietojumi
Optiskie pielietojumi
Punkdefektu loma.
Punktdefektu SiO2 identifikācija un struktūra.
Aktuālās problēmas:
Caurspīdīgums dziļajā UV un vakuuma UV apgabalos
Ar ūdeņradi saistītās foto- un radioķīmiskās reakcijas
Jaunas izgatavošanas metodes.
No plkst.16:15 kolokvija dalībniekus gaidīs kafija ar cepumiem.
Tiek aicināti visi interesenti un it sevišķi – fizikas studenti.
Ieteikumus par potenciāliem kolokvija runātājiem iesūtīt Dr. Aigaram Ekeram (aigars.ekers@lu.lv, tel. 67033752)
